Sasaran Sputtering Titanium

Sasaran Sputtering Titanium
Rincian:
1. Tekanan tinggi: Bahan target sputtering titanium memiliki kepadatan tinggi, ketahanan panas tinggi, dan tekanan tinggi, yang dapat mempertahankan kinerjanya di lingkungan yang kompleks.
2. Stabilitas kimia: Bahan target titanium memiliki stabilitas kimia yang baik dan masa pakai yang lama.
3. Biaya tinggi: Bahan target titanium memiliki biaya tinggi, namun karena kinerjanya yang sangat baik, bahan tersebut banyak digunakan di bidang teknologi tinggi
Kirim permintaan
Deskripsi
Kirim permintaan

Target sputtering titanium terbuat dari logam titanium dan digunakan dalam proses pelapisan sputtering.

Bahan target titanium biasanya digunakan dalam pelapisan alat perangkat keras, pelapis dekoratif, pelapis komponen semikonduktor, dan pelapis layar datar. Ada dua metode utama untuk pembuatan target sputtering titanium: metode peleburan dan metode pengecoran.

Meleleh:Memanaskan logam pada suhu tinggi hingga menjadi cair. Kemudian tuang ke dalam cetakan dan dinginkan hingga membentuk bahan sasaran yang memadat.

Pengecoran:Tempatkan logam dalam ruang vakum dan bombardir dengan partikel berenergi tinggi. Hal ini akan menyebabkan logam menguap, dan ketika mendingin, logam tersebut akan mengembun di permukaan target.

 

Ini adalah salah satu bahan inti untuk menyiapkan sirkuit terpadu, dan kemurniannya biasanya harus di atas 99,99%. AEM menyediakan target paduan titanium, seperti target sputtering titanium tungsten (W/Ti 90/10 wt%), yang merupakan material penting dalam industri semikonduktor dan tenaga surya. Kepadatan target sputtering W/Ti dapat mencapai lebih dari 14,24 g/cm3, dan kemurniannya dapat mencapai 99,995%.

product-400-400
product-650-650
product-270-270
product-700-700

 

Karakteristik

 

1. Tekanan tinggi:Bahan target sputtering titanium memiliki kepadatan tinggi, ketahanan panas tinggi, dan tekanan tinggi, yang dapat mempertahankan kinerjanya di lingkungan yang kompleks.

2. Stabilitas kimia:Bahan target titanium memiliki stabilitas kimia yang baik dan masa pakai yang lama.

3. Biaya tinggi:Bahan target titanium memiliki biaya yang tinggi, namun karena kinerjanya yang sangat baik, bahan tersebut banyak digunakan di bidang teknologi tinggi.

 

Bidang Aplikasi

 

1. Bidang semikonduktor:Bahan target sputtering titanium merupakan salah satu bahan baku penting dalam proses pembuatan chip semikonduktor, dan merupakan bahan utama untuk pembuatan komponen seperti transistor dan rangkaian.

2. Bidang industri:Bahan target titanium dapat digunakan untuk menghasilkan pelapis kelas atas, bahan anti korosi, dll., dan banyak digunakan di bidang seperti mobil dan manufaktur.

3. Bidang medis:Bahan target titanium memiliki karakteristik seperti biokompatibilitas dan biodegradabilitas, serta dapat digunakan untuk membuat peralatan medis seperti sambungan buatan dan implan gigi.

 

Singkatnya, target sputtering Titanium adalah bahan penting yang banyak digunakan di bidang semikonduktor, industri, dan medis. Karena kinerjanya yang sangat baik dan biayanya yang tinggi, masih terdapat potensi besar untuk dikembangkan di masa depan.

 

 

Tag populer: target sputtering titanium, produsen, pemasok, pabrik target sputtering titanium Cina

Kirim permintaan