Deskripsi

Kirim permintaan

Sifat Fisik Target Sputtering Molibdenum

Kepadatan: 10,2 g/cm3

Titik leleh: 2610 derajat

Titik didih: 5560 derajat

Kemurnian target molibdenum: 99,9%, 99,99%

Spesifikasi: target melingkar, target pelat, target berputar

Kemurnian: Molibdenum murni Lebih besar dari atau sama dengan 99,95%, molibdenum suhu tinggi Lebih besar dari atau sama dengan 99% (dengan tambahan unsur tanah jarang)

Proses Produksi Target Sputtering Molibdenum

Billet molibdenum (bahan mentah) - Inspeksi - Pengerolan panas - Pencucian alkali - Pengerolan dingin - Perataan - Pemrosesan mekanis - Inspeksi - Pengemasan

Lingkungan yang cocok untuk bahan molibdenum: lingkungan vakum atau lingkungan perlindungan gas inert, molibdenum murni memiliki ketahanan lebih tinggi terhadap suhu tinggi 1200 derajat, dan paduan molibdenum memiliki ketahanan lebih tinggi terhadap suhu tinggi 1700 derajat.

Industri yang Berlaku Dan Penggunaan Target Sputtering Molibdenum

Bahan target molibdenum dapat digunakan dalam mikroskop elektron, sel surya, industri semikonduktor, layar panel datar, kaca konduktif

Bahan target molibdenum juga dapat digunakan dalam pelapisan optik, pelapis dekoratif , pelapis cetakan dan bidang lainnya. Penerapan target molibdenum ini mendapatkan keuntungan dari sifat fisik dan kimianya yang unik, seperti titik leleh yang tinggi, konduktivitas listrik dan stabilitas termal yang baik, serta ketahanannya terhadap suhu tinggi dan lingkungan korosif.